深圳市精科模具,深圳市精科模具有限公司

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为啥中国做不出光刻机？

不是做不出来，更不是永远做不出来。一台高端光刻机是真功夫的累积，中国过去那么多年，许多时间都是在迷乱中慌忙，对于真切的沉淀是相当少的，自然一时搞不出那个精微工具，这个重点原因在于中国地域是虚阳区域，因地震晃荡，连许多精锐物质都难提炼出来。但是中国还是有自然的特长，那就是全方位的包容化解功能，中国的轻微物质精华又是全世界求之不得的，没中国这个大陆骨架，地球就会丹塌，也就土崩瓦解的。所以中国应该学会自我爱护，珍惜这一方水土，这一方的特色自有贵重之处。精细的不行，粗壮的一定了不起!

首先说一下，中国可以造出自己的光刻机，但是不够先进，目前中国最顶尖的光刻机制造商上海微电子装备(SMEE)，最先进的光刻设备只能做到90nm。而目前世界最先进的是5nm，这就是代差！

光刻机是芯片制造必不可少的，没有光刻机就造不出芯片，芯片越高端，需要的光刻机分辨率越高（就是常说的芯片制程，5nm、7nm）！我们都知道芯片的样子，一块黑乎乎指甲大小的方块，但其实里面有数以亿计的电子元器件和加起来几千米长的导线。

这么精细的工作人力是没办法完成的，于是光刻机出现了，光刻机可以将复杂的电路结构印到晶圆上。

可以这么说，没有光刻机，就没有芯片。没有高端光刻机，就没有高端芯片。

光刻机也是有等级的，评判标准的性能参数就是分辨率，分辨率大家应该都清楚吧？是指对光刻机对加工线条可以达到的精度，纳米级，比头发丝更细小，也就是芯片的制程。

光刻机分辨率大小直接反应在制造出来的芯片上面，体积和性能差别很大，比如14nm制程和7nm制程。14nm芯片产品想要提供跟7nm芯片类似的性能，就要加装，最后整体体积，散热等性能肯定会受到很大影响，消费者肯定不买单！

光刻机并不像其它仪器，它包含各个学科的精华，数学、光学、流体力学、机械、精密仪器、高分子物理与化学、自动化、图像识别等等。

要单独造出一台最先进的光刻机，就需要拥有各个领域最先进的技术，很明显我们还没达到！世界上也没有一个国家达到了，可以单独造出高端光刻机的技术！

目前最先进的是荷兰的光刻机，里面包含的是全世界各个国家、各个领域高精尖的结合。里面有德国的机械工艺，美国的光源设备，日本的光学器材技术，还有韩国、瑞典、法国等国高精尖技术！

可以说，荷兰组装的高端光刻机是整个西方诸国最顶级的工程技术、材料技术、设计水平历经上百年的"集大成者"：美国工程师为了其中一个光源设备零件，不断调试了数十年，升级了几百个版本；德国工程师为了一个光学镜头，打磨上百万次；…这些不是我们说撸起袖子加油干就能短时间内追上的！

不受美国芯片封锁的唯一机会，40年前被我们自己断送了，为什么？

提到芯片，大家就不得不提到光刻机，而提到光刻机，我们也不得不提到光刻机巨头荷兰ASML公司，它占领了市场90%的光刻机的份额，几乎垄断了光刻机市场，几乎世界所有的芯片制造公司都离开不了ASML。

但我告诉你我国在60年代就开始了光刻机的研发，而且技术先进，世界领先，那个时候ASML都还没有诞生，即使是70年ASML仍是后辈，还向中国取经。

虽说中国芯片光刻工艺比美国稍晚，但和日本几乎同时起步，相比韩国、中国台湾还要早10几年。

1970年代中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。清华大学研制第四代分步式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近当时的国际水平。

1972年，武汉无线电元件三厂撰写科学著作《光刻掩模版的制造》，32开66页。

但是由于1980年代国家产业的变革，放弃了尖端电子工业的自主攻关，光刻机等前沿科技被迫中断。

而作为当时光刻机翘楚的武汉无线电元件三厂于1994年破产改制，开始走市场化之路。

品客PEEKER评论：我们和世界一流光刻机企业失之交臂非常可惜，但是站在当年的角度来开，国家经济落后，没有完整的产业链，市场经济刚起步，中断可能情有可原。但一刀切的放弃一个由不计其数的科研人员经过十几年的研发，已经领先于全世界的技术，这个决定绝对是不理智也没有远见的。

如果，只是如果：80年代我们客服困难将几十年的光刻机的技术延续下去，建立起自己的光刻机产业，结合我们现在强大的市场，和超强的研发能力，荷兰ASML绝对不是我们的对手，可以将全世界芯片技术的话语权拿在我们自己的手里。

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